シンポジウム「原子・分子レベルの材料創製とキャラクタリゼーション」

第20回 「スピントロニクスマテリアルの新しい展開」
日 時 2013年1月11日(金)10:00~17:00
会 場 大阪電気通信大学 駅前キャンパス 1階101室
寝屋川市早子町12-16 電話 072-824-8900
(京阪電鉄 寝屋川市駅より 徒歩3分)
参 加 費 聴講:無料
資料集代:500円
懇親会:2,000円
主 催 大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所
協 賛 日本表面科学会関西支部、応用物理学会関西支部、日本真空学会関西支部、 日本磁気学会

 本シンポジウムは原子・分子レベルで制御した材料創製とキャラクタリゼーションに関する最新 の研究成果を議論することにより、当該分野の研究の一層の発展を促すことを目的として毎年開催されております。

 本年は第20回として「スピントロニクスマテリアルの新しい展開」を主題としてシンポジウムを開催いたします。スピントロニクスは、 エレクトロニクスの次世代を担う技術として近年注目を浴びており、研究開発が盛んにおこなわれています。本シンポジウムでは、 スピントロニクスマテリアルにスポットをあて、その現状と将来展望を議論します。

 多数のご参加をいただき、活発な議論を行っていただくことを期待しております。

プログラム 1月11日(金)
10:00~10:05 主催者挨拶
大阪電気通信大学 エレクトロニクス基礎研究所 所長 越川 孝範
10:05~10:50 超高輝度・高偏極スピン偏極低エネルギー電子顕微鏡の開発とスピントロニクス薄膜材料への応用
大阪電気通信大学 越川 孝範
10:50~11:35 計算機マテリアルデザイン先端研究事例-表面スピントロニクス-
大阪大学 笠井 秀明
11:35~12:20 非磁性物質の表面でのスピン分裂とスピン輸送
東京大学 長谷川 修司
12:20~13:45 昼 食
13:45~14:30 Domain Imaging at Multiferroic Perovskite Surfaces by Laser-induced Threshold Photoemission Microscopy
Martin-Luther Universität Halle-Wittenberg Wolf Widdra
14:30~15:15 スキルミオン生成と動的観察
理研 于 秀珍
15:15~15:30 休 憩
15:30~16:15 スピン軌道相互作用から生じるスピン起電力とモノポール
理研 多々良 源
16:15~17:00 金属ナノ構造におけるスピン流誘起物性
東京大学 大谷 義近
17:15~19:15 懇親会(駅前キャンパス2階207室)

【問い合わせ】

大阪電気通信大学工学部 越川孝範
tel: 072-824-1131(内線2582)
e-mail kosikawa@isc.osakac.ac.jp

または

大阪電気通信大学工学部 安江常夫
tel: 072-824-1131(内線2582)
e-mail yasue@phys.osakac.ac.jp

【参加申し込み・問い合わせ】

下記の申し込み用紙をダウンロードし、必要事項をご記入のうえ電子メール添付、またはファックスにて下記までお送りください。
資料集代(500円)、懇親会参加費(2,000円)は当日受付にてお支払いください。

【送信先】

大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所 佐々木 政美
tel: 072-824-1131(内線2588) fax: 072-820-9010
e-mail feri@isc.osakac.ac.jp